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    等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統

    簡要描述:Vision 310等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統--PTI 790+ 系列的延續,延續了服務于多樣化市場的成功經驗

    • 產品型號:Vision 310
    • 廠商性質:代理商
    • 產品資料:
    • 更新時間:2025-09-04
    • 訪  問  量: 589

    詳細介紹

    1.靈活的沉積能力

    ·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統基于硅的沉積工藝-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅(a-Si)、碳化硅(SiC

    ·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統研究與開發

    ·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統原型制作

    ·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統小批量生產-光子學、固態照明MEMS和納米技術

    ·等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統應用領域:層間絕緣層、鈍化層、封裝層、掩模層、抗反射層


    2.性能價值

    等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統1.大尺寸手動裝載載物臺(406mm)

    2.出色的潔凈度

    3.高均勻性

    4.高吞吐量 等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統

    5.可靠的軟件

    6.小巧的占地面積

    7.具有成本效益

    8.易于維護

    9.采用行業頭部組件


    3.經過驗證的解決方案

    ·廣泛的“交鑰匙"工藝

    ·通過優化的噴淋頭實現高薄膜均勻性

    ·高標準的利用率和可靠性--采用一級(Tier Ⅰ)OEM組件、快速抽真空、可選原位終點檢測,避免過度清洗

    ·享有認可的服務與支持

    ·通過低頻或氦氣稀釋實現應力控制


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