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    低溫等離子活化系統

    簡要描述:EVG810 LT 低溫等離子活化系統用于SOI,MEMS,化合物半導體和高級襯底鍵合的低溫等離子體活化系統。

    • 產品型號:EVG810 LT
    • 廠商性質:代理商
    • 產品資料:
    • 更新時間:2025-09-04
    • 訪  問  量: 5117

    詳細介紹

    EVG810 LT 低溫等離子活化系統用于SOI,MEMS,化合物半導體和高級襯底鍵合的低溫等離子體活化系統

    一、簡介

    EVG810 LT (LowTemp™)低溫等離子活化系統是一個獨立單腔室系統,具有手動操作功能。 處理室允許非原位處理(晶片一個接一個地激活并且鍵合在等離子體活化室外部)。

    二、特征

    用于低溫鍵合的表面等離子體活化(熔合/分子和中間層鍵合)

    任何晶圓鍵合機制的快動力學

    無需濕法工藝

    低溫退火時的高鍵合強度(z高400°C)

    適用于SOI,MEMS,化合物半導體和先進封裝

    高度的材料兼容性(包括CMOS)


    三、EVG810 LT 低溫等離子活化系統參數

    1.晶圓尺寸:50-200mm,100-300mm

    2.低溫等離子活化腔:

    工藝氣體:2種標準工藝氣體(N2和O2)

    通用大流量控制器:自校準(高達20.000 sccm)

    真空系統:0.09 mbar

    打開/關閉腔室:自動化

    裝載/卸載腔室:手動(晶圓/基板放置在裝載銷上)

    3.備選功能:

    用于不同的晶圓尺寸的夾頭

    金屬離子激活

    帶有氣體混合的附加工藝氣體

    帶渦輪泵的高真空系統:0.009 mbar的基礎氣壓

     

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