光學膜厚儀是利用薄膜干涉光學原理，對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。光學膜厚儀根據反射回來的干涉光，用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm，可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜，還可以測量n和k值。
應用領域：
半導體制造業，光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量；
生物醫學原件：聚合物/聚對二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層；
微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡；
液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導電透明膜；
由于是光學測量，在測量時候無須擔心破壞樣品，讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內就可測量結果。
1、非接觸式測量：光學膜厚儀采用的原理是通過光的反射原理對膜層厚度進行測量，屬于非接觸式測量方法，不會對樣品造成任何損傷，能夠保證樣品的完整性。
2、測量數據多樣：可以測得物體的膜厚度和n，k數據，這是其它類型的膜厚儀所不具備的特點。
3、測量快速：光學膜厚儀的測量過程非常快速，因為該設備采用了先進的結構設計，能夠ji大程度的提升測量效率，相比于其他類型膜厚測量設備來說顯得非常輕巧方便。
4、適用范圍廣：光學膜厚儀的適用范圍非常廣泛，從普通家用到工廠的工業生產，再到大學實驗室和科學研究所，都可以看到它的身影，由此可見它的使用范圍極其廣泛，能夠作業的場合也變得更加多樣化。
